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原子尺度實時表征與調(diào)控助力自旋芯片和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展——2023年度中國儀器儀表學(xué)會科學(xué)技術(shù)獎獲獎項目解讀

??2023-11-28 閱讀:2010

    為了支撐集成電路產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展,集成電路高端裝備制造已經(jīng)上升為國家戰(zhàn)略。破解集成電路產(chǎn)業(yè)“卡脖子”問題,一大關(guān)鍵是實現(xiàn)高端裝備制造的自主可控。 

自主創(chuàng)新:

    面向后摩爾時代集成電路領(lǐng)域高水平科技自立自強的重大需求,亟需打破壟斷、突破相關(guān)高端裝備關(guān)鍵制造技術(shù)。北京航空航天大學(xué)趙巍勝教授團隊創(chuàng)新突破超高精度復(fù)雜薄膜制備、多靶超高真空共濺射技術(shù),超高真空下超快磁光測量技術(shù),離子束調(diào)控設(shè)備高真空集成、離子束能量連續(xù)精確調(diào)節(jié)技術(shù),超高真空互聯(lián)和無磁傳輸技術(shù),研制全球首套原子尺度界面自旋電子的原位實時表征與調(diào)控系統(tǒng),應(yīng)用于自旋芯片相關(guān)技術(shù)研究,并對關(guān)鍵技術(shù)突破進行產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用推廣。

超高真空磁控濺射設(shè)備

追求卓越:

     團隊從2017年開始進行自旋芯片制造和測試核心設(shè)備工程化開發(fā):超高真空磁控濺射設(shè)備,薄膜沉積精度達到單原子層級別;多物理場高分辨率磁光克爾顯微鏡,關(guān)鍵技術(shù)指標如磁場反應(yīng)特征時間達到400 ns;晶圓級磁光克爾測試儀可用于自旋芯片生產(chǎn)過程中的晶圓薄膜性質(zhì)精確表征。系列自旋芯片材料制備和表征儀器的研制成功和推廣應(yīng)用,填補了相關(guān)領(lǐng)域的空白,促進了我國自旋芯片和集成電路產(chǎn)業(yè)的獨立自主發(fā)展。

晶圓級磁光克爾測試儀

產(chǎn)學(xué)研結(jié)合:

     目前團隊基于技術(shù)推廣應(yīng)用,聯(lián)合致真精密儀器(青島)有限公司和合肥致真精密設(shè)備有限公司兩家儀器設(shè)備公司,完成超高真空高精度磁控濺射儀等3類設(shè)備的研制和量產(chǎn),相關(guān)成果已應(yīng)用于清華大學(xué)、中科院物理所、北京超弦存儲器研究院、中國電科集團、電子科技大學(xué)、上??萍即髮W(xué)、中國計量大學(xué)、吉林大學(xué)等行業(yè)頂尖單位,實現(xiàn)了集成電路領(lǐng)域若干“卡脖子”設(shè)備的國產(chǎn)替代,推動了自旋芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展,取得了顯著的經(jīng)濟效益和社會效益,累計創(chuàng)造經(jīng)濟產(chǎn)值7000余萬元。

 

     2023年10月,“原子尺度界面自旋電子的原位實時表征與調(diào)控系統(tǒng)”項目榮獲中國儀器儀表學(xué)會科技進步一等獎。



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